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第181章 光刻机,制硅,芯片(1/4)

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李卫东睁开眼睛,目光中闪烁着坚定的光芒。

暗暗发誓,要用自己的能力来改变这一切,要让炎国重新站在光刻机技术的最前沿。

系统的声音在他脑海中响起:

【叮!兑换成功,您已获得第一代和第二代光刻机技术。】

李卫东深吸一口气,开始仔细回顾刚刚获得的知识。

第一代光刻机,采用的是接触式曝光技术。

它通过将掩模版直接与涂有光刻胶的硅片接触,然后用紫外线照射,将图形转移到硅片上。

这种方法虽然简单直接,但由于掩模版与硅片的直接接触,容易造成损坏,且分辨率有限。

第二代光刻机则采用了近贴合式曝光技术。

它在掩模版与硅片之间保持一个很小

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